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엔스앤에스텍 은 2001년 설립된 회사로 반도체 및 TFT -LCD 제조 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료 블랭크마스크의 제조 및 판매하는 업체이다..
최근 반도체는 자동차 스마트폰 등등 4차산업에 없어서는 안 되는 주요 부품이다..
반도체 초호황에 TSMC 삼성전자 등 반도체 파운드리 업체들도 계속 투자를 지속하고 있다.. 삼성전자는 평택에 공장을 증설하는데 5 나노 이하의 제품을 만들기 위해선 극자외선 장비 EUV가 필요하다..
EUV 공정이란 반도체를 만드는데 중요한 가정인 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피 제조공정을 말한다..
EUV 장비는 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML이 독점 생산하고 있는데 한 대당 2000억이 넘는 초호가 장비에 한해 출하량이 36대에 불과하다
사업분야
반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같이 한정된 크지내에서 회로의 고집적화를 위해 일반적으로 수백에서 수십나노 크기의 패턴을 갖는 포토마스트가 원재료로써 사용된다.
해상도 향상을 위해 기판,금속막 및 레지스트맞 특성이 중요한 요소호 작용되면 구현하고자 하는 패턴 크기와 미세함으로 인해 particle과 같은 작은 결함에도 아주 엄격한 spec이 요구되고 있다..
디스플레이용 FPD용 블랭크 마스크는 TFT-LCD 와 같은 디스플레이 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료로써, 최종 제품의 크지에 따라 반도체용 블랭크 마스크의 한정된 크기와 달리 다양한 크지를 가지고 있다.
FPD용 블랭크 마스크는 상재적으로 반도체용 블랭크 마스크보다 사이즈가 큰 관계로 대형 블랭크 마스크라고도 한다.이런한 FPD용 블랭크 마스크를 통해 제장 된 포토마스크를 이용하여 스마트폰, 태블릿 PC, 컴퓨터 모니터, TV와 같은 다양한 크기의 디스플레이 용 패널 제작이 가능하게 된다.
주요 주주 정수홍 외 3인 21.68% 삼성전자 8% 자사주 2.9%